파티클 날림 잡은 ‘비접촉 건식 세정’… 에이에프원 독자 시스템 제시 ‘K-디스플레이 2026’서 더블 노즐 구조 세정 헤드 시연 미세 이물질 제거는 디스플레이와 배터리 제조 공정에서 수율을 좌우하는 핵심 과제다. 패널 대형화와 고해상도 구현 등 공정이 고도화되면서 파티클 제거 장비의 중요성이 커진 가운데, 국내 기업 에이에프원이 독자 개발한 비접촉식 건식 세정 시스템을 제시했다.에이에프원은 서울 삼성동 코엑스에서 열린 ‘한국디스플레이산업전시회(K-Display 2026)’에 참가해 자체 세정 브랜드 ‘BUSC’ 라인업을 시연했다. 이 시스템은 기판의 물리적 마찰을 배제한 비접촉 방식으로 설계됐다.여정동 에이에프원 대표는 “기존 해외 장비들이 주로 채택해 온 초음파나 회오리 방식과 달리, 내부 공기를 압축해 이중 노즐로 분사하는 ‘블로우 업’ 방식을 자체 개발해 세정 성능을 개선했다”고 설명했다.특수 설계된 헤드에서 기체를 쏴 이물질을 박리하는 동시에, 컨트롤러가 이를 흡입해 파티클 흩날림을 차단한다. 여 대표는 “공기를 아래로 분사하더라도 이물질이 날리지 않고 곧바로 흡입되도록 유동 해석을 통해 시스템을 구현했다”라고 덧붙였다.해당 시스템은 평면 기판은 물론 4D 곡면, 롤투롤, 메탈 마스크 등 다양한 형태에 맞춤형으로 적용할 수 있다.패널 및 소부장 기업이 대거 참여한 K-Display 2026’은 24일까지 이어진다.

파티클 날림 잡은 ‘비접촉 건식 세정’… 에이에프원 독자 시스템 제시

‘K-디스플레이 2026’서 더블 노즐 구조 세정 헤드 시연

기사입력 2026-07-23 18:15:10

[산업일보]
미세 이물질 제거는 디스플레이와 배터리 제조 공정에서 수율을 좌우하는 핵심 과제다. 패널 대형화와 고해상도 구현 등 공정이 고도화되면서 파티클 제거 장비의 중요성이 커진 가운데, 국내 기업 에이에프원이 독자 개발한 비접촉식 건식 세정 시스템을 제시했다.

에이에프원은 서울 삼성동 코엑스에서 열린 ‘한국디스플레이산업전시회(K-Display 2026)’에 참가해 자체 세정 브랜드 ‘BUSC’ 라인업을 시연했다. 이 시스템은 기판의 물리적 마찰을 배제한 비접촉 방식으로 설계됐다.

여정동 에이에프원 대표는 “기존 해외 장비들이 주로 채택해 온 초음파나 회오리 방식과 달리, 내부 공기를 압축해 이중 노즐로 분사하는 ‘블로우 업’ 방식을 자체 개발해 세정 성능을 개선했다”고 설명했다.

특수 설계된 헤드에서 기체를 쏴 이물질을 박리하는 동시에, 컨트롤러가 이를 흡입해 파티클 흩날림을 차단한다. 여 대표는 “공기를 아래로 분사하더라도 이물질이 날리지 않고 곧바로 흡입되도록 유동 해석을 통해 시스템을 구현했다”라고 덧붙였다.

해당 시스템은 평면 기판은 물론 4D 곡면, 롤투롤, 메탈 마스크 등 다양한 형태에 맞춤형으로 적용할 수 있다.

패널 및 소부장 기업이 대거 참여한 K-Display 2026’은 24일까지 이어진다.

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임지원 기자 jnews@kidd.co.kr

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