[세미콘코리아2005] 세메스, 다양한 반도체 공정 장비 선보여 세메스(SEMES, 구 한국디엔에스)는 반도체 트랙장비, 세정장비, 식각장비와 FPD/LCD 제조장치, 기타공정설비를 제공하는 전문 기업이다. 이번 전시회에서는 주요 생산 장비인 포토공정에 사용되는 스피너(SPIN COATER & DEVELOPER), 세정설비의 WET STATION, SPIN SCRUBBER, SPIN ETCHER 및 FPD 관련 TFT LCD, STN LCD, 유기EL 제조설비 등을 대거 선보였다. 현재 세메스는 하이닉스, 동부아남, 삼성 등 굴지의 반도체 선두 기업들에 제품을 제공하고 있으며, 독자적 원천기술을 보유하고 있는 프로세서 분야에 적극적 활동을 보여주고 있다.관계자는 “K-SPIN12는 300mm용 실리콘웨이퍼에 감광액을 입히는 코팅장치(COATER)와 현상장치 (DEVELOPER) 영역을 차단하는 적층구조로 개발됐고, 각각의 영역에 별도의 웨이퍼에 열을 가하는 베이크 장치와 반송로봇을 배치하는 새로운 개념의 구조를 도입, 상호 환경영향 최소화 및 생산성 향상을 실현화 했다”고 설명했다.미디어다아라 김민수 기자(kms@daara.co.kr)$$$$$

[세미콘코리아2005] 세메스, 다양한 반도체 공정 장비 선보여

기사입력 2005-02-04 11:34:00

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[산업일보]
세메스(SEMES, 구 한국디엔에스)는 반도체 트랙장비, 세정장비, 식각장비와 FPD/LCD 제조장치, 기타공정설비를 제공하는 전문 기업이다. 이번 전시회에서는 주요 생산 장비인 포토공정에 사용되는 스피너(SPIN COATER & DEVELOPER), 세정설비의 WET STATION, SPIN SCRUBBER, SPIN ETCHER 및 FPD 관련 TFT LCD, STN LCD, 유기EL 제조설비 등을 대거 선보였다.

현재 세메스는 하이닉스, 동부아남, 삼성 등 굴지의 반도체 선두 기업들에 제품을 제공하고 있으며, 독자적 원천기술을 보유하고 있는 프로세서 분야에 적극적 활동을 보여주고 있다.

관계자는 “K-SPIN12는 300mm용 실리콘웨이퍼에 감광액을 입히는 코팅장치(COATER)와 현상장치 (DEVELOPER) 영역을 차단하는 적층구조로 개발됐고, 각각의 영역에 별도의 웨이퍼에 열을 가하는 베이크 장치와 반송로봇을 배치하는 새로운 개념의 구조를 도입, 상호 환경영향 최소화 및 생산성 향상을 실현화 했다”고 설명했다.

미디어다아라 김민수 기자(kms@daara.co.kr)

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